シリコンウェハ洗浄機

シリコンウェハ洗浄機は物理的作用と化学的作用を組み合わせた原理に基づいて動作します。専用の機構によって、シリコン材料を洗浄液中で回転・振動させ、物理的な力によりシリコン表面に付着した微細な粉塵や不純物粒子を除去します。同時に、適切な化学洗浄液を選定し、シリコン表面に存在する可能性のある金属酸化物や有機物と化学反応を起こさせ、それらを洗浄液中に溶解可能な物質へ変換することで、深層洗浄を実現します。
超音波洗浄装置では、超音波発生器から発せられた高周波振動信号が振動子（トランスデューサ）によって機械的振動に変換され、洗浄媒体（洗浄液）に伝達されます。超音波は洗浄液中を疎密波として伝播し、液体を流動させるとともに、直径50〜500μm程度の無数の微細気泡を生成します。
これらの気泡は音場の作用下で振動し、超音波が縦波として伝播する負圧領域で生成・成長し、正圧領域において音圧が一定値に達すると急速に膨張・崩壊します。この気泡崩壊の際に衝撃波（ショックウェーブ）が発生し、周囲に数千気圧の局所圧力が生じ、付着した不溶性汚染物を破壊・分散させます。
また、洗浄対象の表面に油分が付着している場合、気泡の崩壊によるキャビテーション効果（空洞現象）によって油が乳化し、固体粒子が分離・除去されることで、洗浄対象の完全な洗浄が達成されます。この過程では、気泡の崩壊により数百度の高温および1,000気圧以上の瞬間的高圧が発生します。

太陽電池産業におけるシリコン材料およびリンシリケートガラスの洗浄・腐食処理に適用されます。また、単結晶・多結晶シリコンウェーハ（例：100mm×100mm、125mm×125mm、156mm×156mmなど）など各種ソーラーセル材料の洗浄にも使用されます。制御システムにはPLC制御およびタッチパネル操作を採用し、手動・自動の両モードで全洗浄プロセスを実行可能です。装置本体はドイツ製PP（ポリプロピレン）を使用しており、構造設計は美観性と実用性を兼備しています。さらに、高性能な排気システムを備え、作業者の健康と安全を確保します。