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SUNFUNは40年にわたりスマートエネルギーとインテリジェント製造に専念し、パートナーに信頼できる先進技術とソリューションを提供してきました。
ミクロン単位の精密加工から百トン級の大型部品まで、0.1グラムから150トンの加工に対応し、エネルギー消費の変動を0.1％以内に管理しています。
イノベーションは、企業成長の原動力です。私たちは政府、大学、企業と連携し、産業の革新を推進。業界に継続的な活力をもたらしています。
自社の研究所と人材アカデミーを有するハイテク企業として、SUNFUNは十数件に及ぶ国家レベルの研究開発プロジェクトを担当し、国家発展改革委員会・科学技術部・工業情報化部などの主要案件にも参画しています。
先端基板の製造に向けて
このシステムは、SOI (シリコン・オン・インシュレーター) や POI (圧電オン・インシュレーター) などの高度な基板生産用に設計されています。プラズマ表面処理と低温接合技術を採用し、優れた界面品質で極薄層の転写を可能にします。 5G、RF デバイス、MEMS 製造に最適で、大量生産において高い均一性と低い欠陥率を実現します。
特長
● SEMI S2、F47規格に適合
● ISO クラス 1 ミニ環境
● モジュール式設計&低メンテナンスコスト
●コンパクトサイズ、省スペース
●カスタマイズ可能な洗浄ユニット
● オプションの真空接合チャンバー
● 高度なカスタマイズ性
●8”/12”、6”/8”互換
●プラズマ活性化ユニット
●汚れのない裏面処理
●オプションで二相流・ブラシ・メガソニック洗浄機能を搭載
● Si/SiC/LT 異種接合に対応
