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SUNFUNは40年にわたりスマートエネルギーとインテリジェント製造に専念し、パートナーに信頼できる先進技術とソリューションを提供してきました。
ミクロン単位の精密加工から百トン級の大型部品まで、0.1グラムから150トンの加工に対応し、エネルギー消費の変動を0.1％以内に管理しています。
イノベーションは、企業成長の原動力です。私たちは政府、大学、企業と連携し、産業の革新を推進。業界に継続的な活力をもたらしています。
自社の研究所と人材アカデミーを有するハイテク企業として、SUNFUNは十数件に及ぶ国家レベルの研究開発プロジェクトを担当し、国家発展改革委員会・科学技術部・工業情報化部などの主要案件にも参画しています。
この一連の装置は、マグネトロン スパッタリングと真空蒸着技術を組み合わせたものです。マグネトロンスパッタリングカソードグロー放電技術を採用し、ターゲットから原子を放出し、原子の一部がイオン化して基板に蒸着します。さらに、PECVDおよびHiPIMS技術と組み合わせることで、柔軟性を高め、より幅広い用途を実現します。
PECVD および HiPIMS テクノロジーにより柔軟性が向上し、より多くのアプリケーションを実現します。
プラズマシステム、高効率マグネトロンスパッタリング陰極（円筒形ターゲットおよび平面ターゲット）、および抵抗蒸着システムを備えています。高い蒸着速度、強力な付着力、滑らかで光沢のあるコーティング、優れた均一性などの特徴を備えています。機械は完全自動制御であり、大きな積載能力を備え、確実に動作し、高品質で、低コストであり、環境保護に優れています。
自動車の装飾部品、ノートパソコン、スマートフォン、家電業界で広く使用されています。金属膜、合金膜、複合膜、透明（半透明）膜、NCvM膜、EMI膜の成膜が可能です。
