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SUNFUNは40年にわたりスマートエネルギーとインテリジェント製造に専念し、パートナーに信頼できる先進技術とソリューションを提供してきました。
ミクロン単位の精密加工から百トン級の大型部品まで、0.1グラムから150トンの加工に対応し、エネルギー消費の変動を0.1％以内に管理しています。
イノベーションは、企業成長の原動力です。私たちは政府、大学、企業と連携し、産業の革新を推進。業界に継続的な活力をもたらしています。
自社の研究所と人材アカデミーを有するハイテク企業として、SUNFUNは十数件に及ぶ国家レベルの研究開発プロジェクトを担当し、国家発展改革委員会・科学技術部・工業情報化部などの主要案件にも参画しています。
ここで説明する装置およびプロセスは自動ウェーハ ハンドリング システムと特殊な ALD 制御ソフトウェアを備えた大容量プラズマ励起原子層堆積システム (PEALD) に関するものです。これにより、前駆体の消費量が少なく、優れた膜の均一性と適合性を備えた完全自動操作が可能になります。 ALD (原子層堆積) は、原子レベルで基板表面の膜成長を正確に制御できる高度な薄膜堆積技術です。異なる化学蒸気前駆体に交互に曝露することにより、自己制限的な表面反応が起こり、層ごとに堆積して薄膜を形成します。 ALD は、特に膜厚の均一性と複雑な形状のコンポーネントの被覆率において、従来の堆積技術に比べて大きな利点をもたらします。マイクロ、ナノスケールの構造を持つ表面でも均一性の高いコーティングを実現します。
光学レンズ、マイクロ/ミニLED、パワーデバイス、OLED、MEMS、高度なパッケージングなどで広く使用されています。
アプリケーション
光学：反射防止膜（ノーゴースト・グレア）、高反射膜（T<0.1%）、レンズ保護層、回折格子素子・曲面コーティング。
半導体：チップパッシベーション層、バリア層、導電層、誘電体層など
太陽光発電：パッシベーション層、透明導電層、水蒸気バリア層、電子輸送層、正孔輸送層など。
MEMS/センサー: 絶縁層、拡散バリア層、水蒸気バリア層、疎水性/親水性層。
