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SUNFUNは40年にわたりスマートエネルギーとインテリジェント製造に専念し、パートナーに信頼できる先進技術とソリューションを提供してきました。
ミクロン単位の精密加工から百トン級の大型部品まで、0.1グラムから150トンの加工に対応し、エネルギー消費の変動を0.1％以内に管理しています。
イノベーションは、企業成長の原動力です。私たちは政府、大学、企業と連携し、産業の革新を推進。業界に継続的な活力をもたらしています。
自社の研究所と人材アカデミーを有するハイテク企業として、SUNFUNは十数件に及ぶ国家レベルの研究開発プロジェクトを担当し、国家発展改革委員会・科学技術部・工業情報化部などの主要案件にも参画しています。
製品の特徴
高い清浄度: 純度 > 99.5%、不純物汚染がなく、半導体などの高精度のシナリオに適しています。
正確な吸着: 非常に滑らかな表面 (Ra≤0.05μm)、均一な微細孔 (Φ20-50μm)、吸着力誤差 < ±1.5%、ワークピースへの損傷なし。
耐熱性：-200℃～600℃までの耐性があり、熱膨張係数がシリコンに近く、高温下でも変形が少ない。
耐食性：強酸、強アルカリ、プラズマに強く、寿命は100万回以上です。
高強度: 1650 °C で焼結、硬度 1600Hv、耐衝撃性、強力なシール (非常に低い漏れ率)。
絶縁: 体積抵抗率 > 10¹⁴Ω・cm により、微小短絡 (ウエハー切断など) を防止します。
ゼロ磁気干渉: 磁化率 < 1×10-6、マグネトロン スパッタリング、電子ビーム処理、およびその他の磁場に敏感なシナリオに適しています。
カスタマイズ可能: さまざまなシナリオの要件に合わせて、形状、加熱/帯電防止機能のカスタマイズをサポートします。
